Eötvös Loránd Tudományegyetem
Természettudományi Kar
Fizikai Intézet

 
   

 

 

 

 

 

mesterszakos diplomatéma részletei

LEZÁRVA!

A kiíró adatai
Név: Menyhárd Miklós
Tudományos fokozat: DSc
Intézet: MTA Műszaki Fizikai és Anyagudományi Kutatóintézet
Telefonszám: 306001063
Honlap: http://www.mfa.kfki.hu,www.mfa.kfki.hu/~menyhard

 

A mesterszakos diplomatéma:
Címe: HATÁRFELÜLETEK KÉMIÁJA
A munka jellege: kísérleti és elméleti
Szakterületi besorolás: Anyagtudomány, szilárdtestfizika
A téma rövid leírása: A modern anyagtechnológiában a mértetek csökkenek és így a határfelületek szerepe sokkal hangsúlyozottabb Pl. a CMOS (integrált áramkör, memória) technológiában az egyre kisebb méretű eszközök létrehozására törekvés miatt, napjainkban a 30-50 nm tartományokban kell tudni meghatározott tulajdonságú és morfológiájú rétegeket létrehozni. Ilyen méretű eszközök gyártása során szükségessé válik, hogy egy technológiai lépésben több folyamat is lejátszódjon, s ezáltal több funkcionális tulajdonság is önszerveződő módon alakulhasson ki (pl. diffúziós barrier és kontaktusréteg félvezető szerkezetekben). A kiírt diplomamunka az INTEL írországi fejlesztői által kezdeményezett projekthez kapcsolódik. A fejlesztés során a Cu-Mn modellrendszert vizsgáljuk, annak a CMOS technológiában való ígéretes alkalmazási lehetőségei miatt. A jelentkező ebbe a munkába kapcsolódhat be. Feladata Cu-Mn multirétegek készítése, a határfelületek összetételének Auger elektronspektroszkópiával való vizsgálata, a keveredési és szétválási folyamatok nyomon követése; a hordozó-réteg diffúziós barrier kialakulása szempontjából fontos határfelületének vizsgálata.
Szükséges előismeretek: BSc anyag
Egyetemi konzulens:
Tanszék:

 

 

 

Programozás és grafika:
Pozsgai Péter